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高溫退火爐係統的配置應用

  高溫退火爐係統使用分子泵組中的機械泵(幹式泵)對真空腔(樣品腔)進行粗抽。當達到分子泵可打開的較大真空時,分子泵打開以進行高真空提取,以達到凯发k8国际登录厅所需的真空。打開軟件,在軟件中輸入所需的磁場值和溫度值,通過閉環反饋調節,使設備中樣品的溫度自動控製並穩定在一定的溫度值。軟件可以根據用戶給出的實驗條件完成實驗。

  磁場控製:用戶可以通過軟件直接設置所需的磁場大小,通過高斯計讀取實際磁場值,然後將實際讀取的磁場值反饋給恒流電源。經過電源內部軟件處理後,直接控製恒流電源的輸出電流,實現用戶所需的磁場並實時顯示在軟件上;

  溫度控製:通過軟件上的人機界麵直接設置所需的溫度值,命令經計算機軟件處理後到達高溫退火爐的加熱控製器。控製器通過溫度傳感器(熱電偶)讀取樣本區域的實際溫度值,並通過其內部設置的模糊控製PID調節輸出電流,從而將溫度值穩定在一定的精度範圍內,從而實現用戶所需的不同溫度。

  真空環境:通過分子泵組獲得真空環境,由高真空全量程真空計顯示和監控,檢測結果實時傳輸到計算機。

  退火過程:在強磁場(或非磁性)環境中加熱樣品,將其加熱到一定溫度(用戶需要自行設置)並保持在該溫度,然後繼續添加磁場(可以隨時改變)。達到用戶目的後,關閉磁場,關閉加熱環境,並將其冷卻至室溫。

  樣品環境:高溫退火爐可將被測樣品同時置於強磁場、高真空和高溫環境中。同時,這三種實驗環境可以獨立或任意組合,以滿足不同環境中不同樣品的測試要求。

  適用範圍:需要在高溫、高真空和強磁場環境中加熱或退磁的各種軟磁材料。

高溫退火爐係統的配置應用

高溫退火爐係統的應用

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